Prognozowanie parametrów strukturalnych w nanostrukturach plazmonicznych symulowanych metodą FDTD z wykorzystaniem uczenia głębokiego

##plugins.themes.bootstrap3.article.main##

Shahed Jahidul Haque

haque019701@gmail.com

Arman Mohammad Nakib

armannakib35@gmail.com

https://orcid.org/0009-0006-4986-8806

Abstrakt

W niniejszym artykule opracowano nowe podejście do szacowania kluczowych wymiarów nanocząstek plazmonicznych z wykorzystaniem programu symulacyjnego opartego na metodzie różnic skończonych w dziedzinie czasu (FDTD). Zespół badawczy zastosował modele głębokiego uczenia, takie jak EfficientNetB0, ResNet50 oraz VGG16, w celu szybkiego i precyzyjnego przewidywania parametrów symulacji na podstawie obrazów uzyskanych z symulacji. Stworzony zbiór danych obejmuje obrazy pola dielektrycznego i magnetycznego uzyskane z symulacji FDTD dla reprezentatywnych materiałów: MgF₂, złota (Au) i szkła. Proces przygotowania danych uwzględniał systematyczną zmianę 38 parametrów strukturalnych w celu uzyskania odpowiedniego pokrycia możliwych konfiguracji. Spośród testowanych modeli, VGG16 okazał się najskuteczniejszy, osiągając błąd walidacyjny równy 0,1607. Uzyskane wyniki dowodzą, że techniki głębokiego uczenia mogą skutecznie przyspieszyć projektowanie oraz optymalizacji urządzeń nanofotonicznych. Opracowana metodologia ma potencjał znacznego ograniczenia kosztów obliczeniowych oraz czasu trwania symulacji w procesach inżynierii nanostruktur.

Słowa kluczowe:

plazmoniczne nanostruktury FDTD, prognozowanie parametrów strukturalnych na podstawie obrazu, uczenie głębokie

Bibliografia

##plugins.themes.bootstrap3.article.details##

Prognozowanie parametrów strukturalnych w nanostrukturach plazmonicznych symulowanych metodą FDTD z wykorzystaniem uczenia głębokiego. (2025). Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska, 15(4), 87-94. https://doi.org/10.35784/iapgos.7300